Єдиний список товарів подвійного використання

Пошук в класифікаторі


	Єдиний список товарів подвійного використання
3	Розділ 3. Електроніка
3B	Обладнання для випробування, контролю та виробництва.
3B001	Обладнання для виробництва напівпровідникових приладів або матеріалів і спеціально
3B001.f	обладнання для літографії, а саме:
3B001.f.1	обладнання для оброблення пластин із використанням методів фотооптичної або рентгенівської літографії з покроковим суміщенням та експонуванням (безпосередньо на пластині) або скануванням (сканер), що має будь-яку з таких характеристик:


3B001.f.1.a	джерело світла з довжиною хвилі менше ніж 193 нм; або
3B001.f.1.b	спроможність формування рисунка з "мінімальним розділюваним розміром елементу" (MRF) 45 нм або менше; Технічна примітка. "Мінімальний розділюваний розмір елементу" (MRF) розраховується за такою формулою:MRF = (довжина хвилі експонуючого джерела світла у нанометрах) х (К фактор) / (числова апертура),де К фактор = 0,35

3B001.f.1.a

джерело світла з довжиною хвилі менше ніж 193 нм; або

3B001.f.1.b

спроможність формування рисунка з "мінімальним розділюваним розміром елементу" (MRF) 45 нм або менше;

Технічна примітка. "Мінімальний розділюваний розмір елементу" (MRF) розраховується за такою формулою:MRF = (довжина хвилі експонуючого джерела світла у нанометрах) х (К фактор) / (числова апертура),де К фактор = 0,35

Ви є тут

Єдиний список товарів подвійного використання

Головне меню

Навігатор ЗЕД

Інформаційна підтримка